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  Centre d'Elaboration de Matériaux et d'Etudes Structurales
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Bâti de pulvérisation cathodique "Plassys"

• Epitaxie de couches minces d'oxydes magnétiques
• dépôts en DC ou RF
• élaboration à diverses température de l'ambiante à 1000°C
• pression de base : 10e-9 mbar
• deux systèmes de cathodes face à face
• un cluster de 3 mini-magnétrons
• mesures magnétiques par effet Kerr in situ
• RHEED

Contacts :
- Jean-François BOBO LPMC-INSA bobo@insa-tlse.fr
- Etienne SNOECK CEMES-CNRS snoeck@cemes.fr


Le bâti de pulvérisation cathodique ("sputtering")

 

 

 

 
 
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